| HI 84100 | 食品行业二氧化硫滴定分析测定，HI3148B电极，滴定试剂，相关附件，中英文手册 ' |
HI84100采用滴定分析方法快速测量残留二氧化硫和总二氧化硫含量。在食品加工领域，二氧化硫的主要应用是进行防腐。以葡萄酒为例，当有氧存在时将与二氧化硫发生反映，起到的作用，进而保证酵母菌的正常发酵，并抑制其他杂菌。
• 基于微电脑控制技术，集滴定分析，磁力搅拌和电极测量于一体
• 性能优良操作简单，可直接显示测量结果
• 人性化设计，具有稳定标识和校准信息等显示功能
• 残留二氧化硫浓度取决于三个因素：总添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常残留二氧化硫浓度为0.8ppm即可保证和净化杂菌的作用
• 当残留浓度超过2.0ppm时，即被人感知到，因此以此浓度作为上限值。
| 型号 | HI 84100 | ||||||||||||||||||
| 滴定范围 | 0 to 400 ppm of SO2 | ||||||||||||||||||
| 滴定方法 | 等电位氧化还原滴定法 | ||||||||||||||||||
| 滴定精度 | 读数的5% | ||||||||||||||||||
| 取样量 | 50 mL | ||||||||||||||||||
| ORP电极 | HI 3148B | ||||||||||||||||||
| 供电方式 | 220V/60 Hz；10VA | ||||||||||||||||||
| 使用环境 | 0 to 50°C (32 to 122°F)；RH max 95% | ||||||||||||||||||
| 尺寸重量 | 208 × 214 × 163 mm；2200 g | ||||||||||||||||||